半导体和光伏
超纯水(UPW)对于加工晶片或复杂的湿化学程序步骤是必不可少的,所述微型和纳米电子产品中涉及的光刻。这些过程用于制造诸如计算机处理器,存储器芯片,发光二极管(LED),液晶(LC)和LED显示器和光伏模块的半导体部件。例如,UPW也用于MicroSystems技术,用于制造和处理微型化的微型机械部件,例如微型化的微型机械部件和微型阀。超纯水是预防或移除精致结构的沉积物或杂质的重要前提,否则将导致生产故障和不可澄清的高拒绝率。随着电子产品的进步越来越小,UPW的质量要求越来越严格。
特殊的离子交换树脂从lewatit®Ultrapure(UP)系列在生产超纯净水中可靠和有效地发挥重要作用。这些包括个体树脂以及工作混合床和最终抛光剂。它们的特征在于特别低的有机物质释放,因此在处理序列(低ΔToc,总有机碳)中的任何TOC浓度较少有助于任何增加。更重要的是,金属和粒子向下排出到纳米范围的最小值。
生产UPW,淡水或再生过程水首先脱矿质。然后,通过最终抛光来达到所需的极低电导率。用特殊离子交换剂进行最终抛光后,获得的水将是纯度最高。如果需要,通过一系列过滤步骤进一步降低水的颗粒含量。
除了过滤步骤之外,特殊的离子交换剂还能从开头的开头中防止由于树脂腐蚀而形成颗粒。为此,从水中除去过氧化氢的侵袭性氢。
我们的Lewaplus.®设计软件可以在制造的基础上模拟离子交换树脂和交换阶段的各种组合,并分析它们的性质。这为用户提供了最大的信心,即他们将获得相关饲料水的最佳处理解决方案以及给定情况的所需工艺水质。
掺杂有钯的特殊离子交换剂适用于消除过氧化氢,其在通过紫外线照射的UPW生产过程中在TO技术的去除过程中形成的过氧化氢。lewatit®K7333能够催化地分解过氧化氢,从而形成水和氧气。
这可以防止离子交换器中的聚合物结构的腐蚀,以进行最后用于最后纯化步骤的最终抛光。由此可靠地消除了微小颗粒的可能源。
在生产的生产中,工作混合床吸收在预纯化期间脱矿质化后保留在水中的离子。特别地,这些包括具有相对较弱的结合趋势的复合阴离子,例如硅酸盐,硼酸盐和碳酸氢盐。由于这些工作混合床仍然吸收大量盐,因此树脂组分的再生是经济意义。
最终抛光是用于UPW的最后纯化步骤,其必须满足高度集成微处理器的生产的最高纯度要求。这里,PPB中的离子迹线甚至PPT甚至位于超纯水中留下的工作混合床在超纯的最终抛光混合床中除去。
这是遵守电阻率规格的可靠手段;特别是金属离子,硅酸盐和硼酸盐的残留含量;和粒子限制,为光滑,高效地生产高质量的半导体元件是必要的。
根据在半导体部件或光伏模块的生产过程中进入水的各种杂质,废水处理针对每种应用中发现的杂质量身定制。在使用蚀刻过程的情况下,这涉及处理酸性废水并特别地除去氟化物。含铜的磨料用于晶片的化学/机械抛光,结果是,对水生生物有害的铜也进入了废水。
例如,来自光伏电池产生的废水可能含有环境有害的锑,铅,镉,硒或碲化合物。使用选择性交换树脂的离子交换是甚至可以可靠地从水中除去像这样的杂质痕迹的经过验证和有效的方法,从而防止了对人类和环境的风险。